二手設備

  • Mirra 3400 CMP 200mm

    Miira CMP ，適用於氧化層， 鎢、 銅的晶圓平坦化研磨。

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  • Mirra-Mesa CMP 200mm

    Miira CMP 適用於氧化層、鎢、銅的晶圓平坦化研磨，且搭配整合 Mesa 清洗機，能有效洗淨研磨後的晶圓。

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  • Mirra-ONTRAK CMP 200mm

    Miira CMP 適用於氧化層、鎢、銅的晶圓平坦化研磨，且搭配整合ONTRAK清洗機，能有效洗淨研磨後的晶圓。

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  • 776-7700 CMP 200mm

    776 CMP 適用於鎢、銅、氧化層的晶圓平坦化研磨，且搭配整合 7700 清洗機，能有效洗淨研磨後的晶圓。

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  • 776-OnTrak CMP 200mm

    776 CMP 適用於鎢、銅、氧化層的晶圓平坦化研磨，且搭配整合 OnTrak 清洗機，能有效洗淨研磨後的晶圓。

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  • Reflexion CMP 300mm

    Applied Reflexion CMP 系統是一種自動化晶圓製造系統，它可在控制條件下，結合使用化學與研磨，從晶圓表面去除特定量的材料。

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  • Reflexion-Desica CMP 300mm

    The Applied Reflexion CMP system，結合Desica® 清潔機，採用獨特的全浸入式 Marangoni™ IPA乾燥技術，幾乎可以消除水印缺陷並...

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  • Ontrak Cleaner

    OnTrak Synergy 是一種 CMP 後雙面清洗機，可結合各種化學液，將研磨後之漿料顆粒去除以及使用 HF（可選）等化學物質去除 CMP 後晶圓和基板上的金屬污染物。...

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